1-3 DCB
22.(15分)1) 148(1分)除去粗硅中的SO2、Fe2O2CuO等杂质(2分)(2)ab(2分)(3)SHCl H2~1100~1200℃=Si 3HCL2分)2NA(1分)·加热SHCl3,使之变成蒸汽进人石英管(1分)反应温度较高,普通玻璃不能承受该高温(2分)(4】没有进行尾气处理(1分)(5)蒸馏(1分)(6)使用有毒气体;三氯氢硅氢还原法中HC和H2可以直接循环利用,节约成本,而四氯化砖氢还原法中没有可循环利用的原料(2分,其他合理答案也给分)【解析】(1)硅的原子结构示意图为( 14,粗硅中含有杂质SO2、Fe2O3、CuO、C等,Fe2O3、CuO能与酸反应,SO2能与碱反应,进行酸、碱预处理的目的是除去粗硅中的SiO2、Fe2O3、CuO等杂质。(2)实验室中制备HCl气体是用固体NaC和浓硫酸加热反应,可选用装置b;也可采用向浓盐酸中滴加浓硫酸,可选用装置a(3)图B中SCl3与H2反应制Si,反应的化学方1100~1200℃程式为 SicL3 H2=Si 3HCI,生成1si,转移的电子数为2NA;其烧杯中水的作用是加热SiHC3,使之变成蒸汽进入石英管;该装置使用石英管而不是普通玻璃管的原因是反应温度较高,普通玻璃不能承受该高温。(4)三氯氢硅有一定毒性,需进行尾气处理(5)由表中数据可知,SiHC和SC4的沸点相差较大,最好的分离方法是蒸馏。(6四氯化硅氢还原法制硅的不足之处在于使用有春气体;三氯氢硅氢还原法中HC和H2可以直接循环利用,节约成本,而四氯化硅氢还原法中没有可循环利用的原料。
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